Intel 18A工艺取得重要进展，良率超越三星2nm，实力依旧强劲
Intel的18A工艺取得了重要进展，其良率已经超越了三星的2nm工艺，这一成就标志着Intel在半导体制造领域的实力和技术水平，有望为其在市场上保持领先地位提供有力支持，这一进展对于整个半导体行业来说也是积极的信号，预示着未来技术进步的持续加速和市场竞争的加剧。7月14日消息，据相关报道，keybanc capital markets发布的分析指出，intel 18a工艺的良率已由上季度的50%提升至55%，在与同行的对比中表现突出。
相较之下，三星当前2nm工艺（S...