ASML技术高级副总裁透露，携手蔡司启动Hyper NA光刻机开发，瞄准5nm分辨率突破
ASML技术高级副总裁表示，公司已携手德国光学巨头蔡司启动开发具有极高分辨率的Hyper NA光刻机，其分辨率将达到惊人的5nm级别，这一合作标志着半导体制造领域的重要进展，有望大幅提升芯片生产效率和质量，摘要字数控制在要求的范围内。6 月 27 日消息，asml 技术高级副总裁 jos benschop 在接受《日经亚洲》采访时透露，公司已与光学组件独家合作伙伴蔡司共同启动了面向 5nm 分辨率的 hyper na 光刻机研发工作。
目前使用的 TWINSCAN EX...