全国首个MOR核心技术取得突破，国产EUV光刻胶启动，这一重要进展标志着中国在半导体制造领域迈出了关键一步，该技术将有望提高国内半导体制造水平，推动产业发展，加快国产替代进程，这一创新成果的取得，对于提升国家科技实力、促进经济发展具有重要意义。9月8日消息，euv光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备，同样重要的还有euv光刻胶，现在无锡宣布国内首个掌握euv光刻胶核心技术的平台启动了。
来自无锡政府网站的消息，9月4日2025集成电路（无锡）创新发展大会开幕。
本次大...
半导体巨头中，EUV光刻机数量备受关注，台积电是唯一一家超过百台的企业，展现出强大的技术实力和市场份额，日本一家专注于制造2nm技术的公司也引人注目，这些企业的成功离不开对先进技术的持续投入和创新能力的不断提升，这些光刻机的数量和技术水平将直接影响未来半导体产业的发展方向和竞争格局。
在半导体制造领域，工艺节点越先进，对光刻设备的要求也越高。尤其是5nm及以下制程的量产，几乎完全依赖EUV（极紫外）光刻机。目前全球范围内仅有ASML能够提供此类高端设备，因此台积电、三星...
美国官方投资了一家名为xLight的初创企业，该企业专注于研发极紫外（EUV）技术，据悉，该企业成功研发出功率高达1000W的EUV设备，其功率远超当前市场上领先的ASML光刻机，达到其四倍，这一重大突破有望为半导体制造领域带来革新，进一步推动集成电路的发展，官方投资将为xLight的研发提供有力支持，未来有望带来更多创新成果。12月2日最新消息，euv光刻技术已成为5纳米及更先进制程不可或缺的核心环节。目前全球范围内，仅有荷兰asml公司具备量产euv光刻机的能力。而美国正...
近日，某企业成功中标一台光刻机，中标金额为1.1亿元，这台光刻机的分辨率低于110nm，具有极高的精度和性能表现，此次中标标志着我国在高端制造业领域取得了重要进展，有望推动相关产业的发展和提升国家竞争力。12月25日，国产光刻机领域再传新动态，引发广泛关注。在中国政府采购网发布的编号为zycgr22011903的采购公告中显示，科学技术部采用单一来源方式，采购一台步进扫描式光刻机，中标金额达1.099亿元，中标单位为上海微电子装备（集团）股份有限公司，设备型号为ssc800/...
欧盟指出，中美对欧洲的技术依赖远超想象，特别是在极端紫外线技术（EUV）领域，全球仅此一家，这一独特的技术优势使得欧洲在全球科技竞争中占据重要地位，对此，欧盟强调其技术实力和创新能力的不可替代性，呼吁各国加强合作，共同推动全球科技进步，这一表态反映了欧盟在科技领域的自信和开放态度，同时也揭示了全球科技合作的复杂性和重要性。1月1日消息，在高科技领域，当前普遍认为美国和中国是引领全球的两大主力，而欧盟则被认为已处于相对落后的位置。然而，一份最新曝光的欧盟内部报告却提出了截然不同...